Chinesischer EUV-Lichtquellen-Prototyp erstmals in Shanghai gezeigt – Serienproduktion noch drei bis fünf Jahre entfernt

Prototyp einer Lichtquelle erstmals öffentlich vorgestellt

Das Shanghaier Start-up Langdao Suiyan hat auf der 26. China International Industry Fair einen Prototyp einer extrem ultravioletten Lichtquelle vorgestellt. Nach Unternehmensangaben stammen 90 Prozent der Komponenten aus China; bis zur Serienproduktion dürften jedoch noch drei bis fünf Jahre vergehen. Die Ausstellung, über die im Oktober 2026 berichtet wurde, macht einen konkreten Teil von Chinas Bemühungen um fortschrittliche Chipfertigung öffentlich sichtbar: ein Gerät, das das Licht erzeugen soll, mit dem winzige Schaltungsmuster auf Wafer aufgebracht werden.

Bei dem Exponat handelt es sich um eine EUV-Lichtquelle, eine wichtige Komponente einer Lithografiemaschine. Eine vollständige Anlage benötigt außerdem Präzisionsoptiken, eine Plattform zur Positionierung des Siliziumwafers, ein Vakuumsystem und Steuerungen, die das Zusammenspiel dieser Komponenten sicherstellen. Langdaos Zeitplan bezieht sich auf die Entwicklung der Lichtquelle. Mitarbeiter nannten eine höhere Leistung und einen zuverlässigen Dauerbetrieb als wichtigste noch ausstehende Aufgaben.

Unternehmensvertreter sagten, der Prototyp könne für Belichtungstests von Chips eingesetzt werden. Den Angaben zufolge erreicht Langdaos Niedrigleistungssystem FlintNano eine EUV-Leistung von mehr als 15 Watt und kann mehr als 100 Stunden im Dauerbetrieb laufen. Unabhängige Testergebnisse oder detaillierte Belichtungsergebnisse des ausgestellten Prototyps wurden nicht veröffentlicht. Seine Leistungsfähigkeit bei praktischen Tests zur Chipfertigung bleibt daher unklar.

Die Entwicklung ist bedeutsam, weil chinesische Chiphersteller aufgrund von Exportbeschränkungen keine EUV-Lithografiemaschinen des niederländischen Anbieters ASML kaufen können. Eine heimische Lichtquelle könnte langfristig eine alternative Lieferkette unterstützen. Bislang zeigt die Ausstellung in Shanghai ein junges Unternehmen, das an einer der anspruchsvollsten Komponenten arbeitet und selbst noch mehrere Jahre Entwicklungszeit veranschlagt.

Was wurde in Shanghai gezeigt?

Langdaos Prototyp nahm in der Innovationshalle der Messe einen eher bescheidenen Platz auf dem Ausstellungsgelände in Shanghai ein. Seine unfertige Außenhülle zog Aufmerksamkeit auf sich, während Mitarbeiter formelle Medieninterviews ablehnten. Andere Berichte über das Exponat hielten technische Erläuterungen von Unternehmensvertretern fest, darunter die Angaben zum Anteil heimischer Komponenten und zum erwarteten Zeitplan für die Produktion.

Langdao zufolge nahm das Unternehmen auf Einladung des Shanghai Technology Innovation Center teil. Mitarbeiter beschrieben den Auftritt als Gelegenheit zu zeigen, dass ein chinesisches Team an der Erzeugung von EUV-Licht arbeitet, und um angesichts eines langwierigen Entwicklungsprozesses um Geduld zu werben.

Bei der Lithografie wird eine lichtempfindliche Beschichtung auf einem Siliziumwafer durch ein Muster belichtet. In späteren Fertigungsschritten wird dieses Muster in Teile eines elektronischen Schaltkreises umgesetzt. EUV-Licht hat eine Wellenlänge von etwa 13,5 Nanometern und ermöglicht es geeigneten Anlagen, besonders feine Muster aufzubringen. Die Erzeugung des Lichts ist nur der Anfang: Die Anlage muss es auch präzise lenken und eine gleichmäßige Belichtung gewährleisten.

Die veröffentlichten technischen Daten

Langdaos FlintNano LPP-OXXO ist das Niedrigleistungssystem, zu dem die ausführlichsten technischen Daten veröffentlicht wurden. Das Unternehmen ordnet die FlintNano-Reihe der Produktentwicklung und Kommerzialisierung zu. Bei der leistungsstärkeren Reihe FlintMicro-LPP seien die Arbeiten an Grundlagen und Machbarkeit abgeschlossen.

Zu den Langdao zugeschriebenen technischen Daten gehören:

• Ein Antriebslaser mit einer Nennleistung von 1.000 Watt und einer Frequenz von 1 bis 20 Kilohertz.
• Ein Wirkungsgrad von mehr als 2 Prozent und eine EUV-Leistung von mehr als 15 Watt.
• Ein Dauerbetrieb von mehr als 100 Stunden.
• Eine Plasmagröße von 60 Mikrometern.
• Eine Plasma-Stabilität von unter 3 Prozent RMS und eine Energiestabilität von 5 Prozent.

Watt ist eine Einheit der Leistung und gibt an, wie schnell Energie umgesetzt wird. Die Nennleistung des 1.000-Watt-Lasers bezeichnet die Leistung des Antriebslasers; die Angabe zur EUV-Leistung beschreibt das vom System erzeugte nutzbare Licht. Dabei handelt es sich um verschiedene Stufen des Prozesses. Kilohertz misst die Wiederholfrequenz; 1 Kilohertz entspricht 1.000 Zyklen pro Sekunde.

Der RMS-Wert für die Stabilität fasst Schwankungen über einen Messzeitraum zusammen. Für einen Chiphersteller ist entscheidend, ob jede Belichtung eine ausreichend gleichmäßige Lichtmenge erhält. Schwankungen können die Genauigkeit beeinträchtigen, mit der sich ein Schaltungsmuster in der Beschichtung eines Wafers bildet.

Wie das Licht erzeugt wird

Langdao setzt auf lasererzeugtes Plasma, kurz LPP. Dabei trifft ein leistungsstarker Laser auf winzige Zinntröpfchen und erzeugt ein extrem heißes Plasma, das EUV-Licht aussendet. Plasma ist ein Materiezustand, in dem Atome einige ihrer Elektronen verloren haben. Ein Kollektorspiegel bündelt einen Teil des ausgestrahlten Lichts und lenkt es zur Belichtungsanlage.

Auch die kommerziellen EUV-Anlagen von ASML verwenden eine LPP-Lichtquelle. Die schwierige technische Aufgabe besteht darin, den Prozess wiederholt präzise ablaufen zu lassen, genügend nutzbares Licht einzufangen und empfindliche Ausrüstung vor den Auswirkungen des Plasmas zu schützen. Ein stabiler Strom von Zinntröpfchen, ein leistungsstarker Antriebslaser und ein langlebiger Kollektorspiegel müssen dabei zusammenarbeiten.

Langdaos breiteres Geschäftsfeld spiegelt diese Anforderungen wider. Neben EUV-Lichtquellen nennt das Unternehmen Hochleistungs-Kohlendioxidlaser und Software zur Plasmasimulation. Die Laser dienen als Antriebskomponenten; mit der Simulationssoftware können Ingenieure das Verhalten des Plasmas untersuchen und Betriebsbedingungen anpassen.

Zu den chinesischen Forschungsansätzen gehören auch alternative Verfahren wie laserinduzierte Entladungsplasmen und die lichtbasierte Erzeugung mithilfe von Teilchenbeschleunigern. Diese Projekte haben jeweils eigene Entwicklungszeitpläne. Langdaos öffentlich genannte Schätzung für den Beginn der Serienproduktion seiner Lichtquelle liegt weiterhin bei drei bis fünf Jahren.

Warum mehr Leistung und längere Lebensdauer wichtig sind

Kommerzielle EUV-Systeme benötigen Lichtquellen mit einer Leistung von mehreren hundert Watt sowie einen zuverlässigen Betrieb bei intensiver Fertigung. Mit einer veröffentlichten EUV-Leistung von mehr als 15 Watt fällt Langdaos Niedrigleistungssystem in eine andere Betriebskategorie. Für den Einsatz in Fabriken muss die nutzbare Lichtleistung steigen, während die Anlage stabil bleibt.

Mehr nutzbares Licht kann dazu beitragen, Wafer in einer Lithografieanlage schneller zu belichten. Das beeinflusst, wie viele Wafer eine Fabrik verarbeiten kann und wie viel jede Belichtung kostet. Ebenso wichtig ist die Zuverlässigkeit: Eine Unterbrechung kann die Produktion verzögern und den Wert einer ansonsten leistungsstarken Lichtquelle schmälern.

Eine besondere Herausforderung ist der Kollektorspiegel, da er in der Nähe eines energiereichen Plasmas arbeitet. Auch der Generator für die Zinntröpfchen muss diese stets zur richtigen Zeit an die richtige Stelle bringen. Schon kleine Veränderungen in einem der beiden Prozesse können das Licht beeinflussen, das den Wafer erreicht.

Die von Langdao angegebene Betriebsdauer von mehr als 100 Stunden entspricht mehr als vier Tagen. Kunden aus der Industrie benötigten außerdem Informationen zu Wartungsintervallen, zum Austausch von Komponenten und zur Leistung über wiederholte Betriebszyklen hinweg. Mitarbeiter stellten die noch ausstehenden Entwicklungsarbeiten unmittelbar mit Leistung und Stabilität in Zusammenhang.

Was bedeutet der Anteil von 90 Prozent heimischen Komponenten?

Unternehmensvertreter sagten, 90 Prozent der Komponenten des Prototyps seien lokalisiert; die meisten Kernteile seien intern entwickelt worden. Zugleich verwiesen sie auf Schwierigkeiten bei der Beschaffung einiger importierter Komponenten und darauf, dass chinesische Alternativen in bestimmten Bereichen noch weniger stabil seien.

Langdao erläuterte nicht, ob sich die 90-Prozent-Angabe auf die Zahl der Komponenten, ihren Wert oder eine andere Berechnungsmethode bezieht. Entscheidend ist, welche Teile sich nur schwer ersetzen lassen und wie sie sich auf die Zuverlässigkeit des Gesamtsystems auswirken. Auch ein kleiner Anteil an Komponenten kann Teile umfassen, die für den Dauerbetrieb unverzichtbar sind.

Die Mitarbeiter wollten nicht sagen, um welche importierten Teile es sich handelt. Ihre Erläuterungen verorteten die technische Herausforderung in einem Netzwerk von Zulieferern und nicht allein bei der Montage durch ein einzelnes Unternehmen. Bessere heimische Komponenten müssten gleichbleibende Qualität und eine verlässliche Lebensdauer bieten.

Für chinesische Waferfabriken könnte eine ausgereifte heimische Lichtquelle langfristig die Abhängigkeit von Beschränkungen bei Anlagen und Ersatzteilen verringern. Die aktuelle Aufgabe besteht darin, aus heimischen Entwicklungen Komponenten zu machen, die über lange Zeit zuverlässig zusammenspielen.

Ein Start-up mit Investoren aus der Chipbranche

Langdao wurde 2024 gegründet. Gründer Wang Hao und sein Team greifen auf Forschung aus dem Labor für Gasentladung und Plasma der Tsinghua-Universität zurück. Ihr Schwerpunkt liegt auf LPP-Technologie für EUV-Lichtquellen in der Lithografie.

Die Entwicklung des Unternehmens wurde von mehreren Finanzierungsrunden begleitet. Zu den in Berichten genannten Investoren gehören Woyan Capital und China Fortune-Tech Capital, das Verbindungen zum führenden chinesischen Auftragschiphersteller Semiconductor Manufacturing International Corporation unterhält. Diese Unterstützung verbindet das Start-up mit Investoren, die mit Halbleiterausrüstung und Fertigung vertraut sind.

Die berichtete Abfolge reicht von der Gründung über Finanzierungsrunden bis zur öffentlichen Präsentation:

• 2024: Langdao wurde gegründet und begann mit seinem EUV-Lichtquellenprojekt.
• Oktober 2025: Suiyue Ventures, verbunden mit Zhangjiang Hi-Tech, stellte eine Anschubfinanzierung bereit.
• Januar 2026: Das Unternehmen schloss eine weitere Anschubfinanzierungsrunde ab.
• Juli 2026: Langdao schloss eine Finanzierungsrunde der Serie A ab.
• Oktober 2026: Der Prototyp der Lichtquelle wurde erstmals öffentlich auf der Industriemesse in Shanghai gezeigt.

Die Finanzierung verschafft dem Unternehmen Mittel für Ausrüstung, Personal und weitere Entwicklungsarbeit. Langdaos eigener Zeitplan sieht nach dem öffentlichen Debüt noch mehrere Jahre Entwicklungsarbeit vor. Das verdeutlicht, wie groß der Abstand zwischen der Finanzierung eines Prototyps und der Lieferung eines reproduzierbar herstellbaren Industrieprodukts ist.

Exportkontrollen erhöhen den Druck auf die heimische Entwicklung

ASML ist der einzige kommerzielle Anbieter vollständiger EUV-Lithografiesysteme. Exportbeschränkungen verhindern den Verkauf dieser Anlagen nach China und machen eine heimische Alternative zu einer strategischen Priorität für chinesische Hersteller. ASML stärkte seine Kompetenzen bei Lichtquellen 2013 durch die Übernahme von Cymer. Sie war Teil der langen industriellen Entwicklung, die hinter den heutigen Anlagen steht.

Chinesische Chiphersteller nutzen für die Produktion weiterhin Anlagen für Ultraviolett-Lithografie, kurz DUV. DUV arbeitet mit längeren Wellenlängen als EUV. Mit Mehrfachstrukturierung, bei der ein komplexes Schaltungsmuster auf mehrere Fertigungsschritte verteilt wird, lässt sich das Einsatzspektrum dieser Anlagen erweitern. Zusätzliche Schritte erhöhen die Komplexität und die Kosten der Fertigung.

ASML-Chef Christophe Fouquet äußerte sich skeptisch dazu, wie schnell China zur Technologie des Unternehmens aufschließen könne. In einer Telefonkonferenz mit Investoren beschrieb er den noch zurückzulegenden Weg Chinas so:

noch einen sehr, sehr langen Weg vor sich

Langdaos Schätzung von drei bis fünf Jahren gibt einen konkreteren Zeitrahmen für das eigene Projekt vor. Ausgehend von der gemeldeten Präsentation im Oktober 2026 deutet das bei planmäßigem Entwicklungsverlauf auf den Zeitraum von etwa 2029 bis 2031 hin. Der Zeitplan gilt für die Lichtquelle. Für eine vollständige Lithografiemaschine müssten auch die übrigen wichtigen Systeme ein kompatibles Leistungsniveau erreichen.

Fortschritte in anderen Bereichen ordnen die EUV-Entwicklung ein

Chinesische Zulieferer bauen ihre Kapazitäten auch in anderen Fertigungsbereichen als der Lithografie aus. Auf der im selben Zeitraum in Shenzhen veranstalteten Halbleitermesse präsentierte Hwatsing eine Ionenimplantationsanlage, Leadmicro zeigte Anlagen zur Dünnschichtabscheidung und Piotech kündigte eine Technologie zur Abscheidung von Kohlenstoffschichten für Speicher- und Logikchips an.

Diese Entwicklungen sind wichtig, weil eine Waferfabrik auf viele Arten von Anlagen angewiesen ist. Die Ionenimplantation verändert die elektrischen Eigenschaften ausgewählter Siliziumbereiche. Bei der Abscheidung werden dünne Materialschichten aufgebracht. Die Lithografie legt Muster fest, an denen sich spätere Arbeitsschritte orientieren. Fortschritte in diesen Bereichen können den Einsatz heimischer Anlagen steigern, während die Entwicklung von EUV weitergeht.

Bernstein Research prognostizierte, dass chinesische Anbieter bis 2028 einen Anteil von 52 Prozent am Markt für Waferfertigungsanlagen in China erreichen würden. Für 2026 wurde ihr Anteil auf 28 Prozent geschätzt. Das entspricht einem prognostizierten Anstieg um 24 Prozentpunkte. Die Prognose bezieht sich auf einen deutlich breiteren Anlagenmarkt als die EUV-Lithografie.

Bei Langdaos nächsten wesentlichen Fortschritten wird es um eine höhere Leistung, anhaltende Zuverlässigkeit und die Belichtungsleistung während des angekündigten Entwicklungszeitraums gehen. Chinesische Internetnutzer fragten außerdem, ob die öffentliche Aufmerksamkeit für das Exponat der Mittelbeschaffung und patriotischer Begeisterung dienen solle. Detaillierte Betriebsdaten würden potenziellen Kunden und Investoren konkretere Informationen über die Produktentwicklung liefern.

Die wichtigsten Punkte

• Langdao Suiyan zeigte in Shanghai einen EUV-Lichtquellen-Prototyp. Unternehmensmitarbeiter zufolge stammen 90 Prozent der Komponenten aus China.
• Das Exponat ist eine Lichtquelle, eines von mehreren wichtigen Systemen einer vollständigen EUV-Lithografiemaschine.
• Zu den veröffentlichten technischen Daten des FlintNano-Systems gehören eine EUV-Leistung von mehr als 15 Watt und eine Betriebsdauer von mehr als 100 Stunden.
• Mitarbeiter veranschlagten bis zum Beginn der Serienproduktion weitere drei bis fünf Jahre. Die wichtigsten Entwicklungsaufgaben seien Leistung und Zuverlässigkeit.
• Das Unternehmen wurde 2024 gegründet und hat Investoren mit Verbindungen zur chinesischen Halbleiterbranche gewonnen.
• Exportbeschränkungen für EUV-Anlagen von ASML treiben Chinas Bemühungen um die Entwicklung heimischer Ausrüstung weiter voran.